蒙脱石是由颗粒极细的含水铝硅酸盐，较早的资料就有资料记载其具有药用效果，如在《本草纲目拾遗》中介绍膨润土可用于治疗外伤和，并将其归纳为中药的一种。蒙脱石混悬液由主药蒙脱石、助悬剂、矫味剂等组成，用于治疗及消化道溃疡等效果显著。其具有服用剂量准确、服用携带方便、粒度较细、服用后可快速分散到人体消化道、效果更好等多种优点。鉴于此，我们拟将蒙脱石制备成混悬剂以克服上述蒙脱石散剂的缺点。混悬液的制备原则首先是使粉粒润湿并在液体分散介质中均匀分散，保持一定条件使其尽量不聚集，然后采取一定的措施防
止结块。
制备方法通常混悬液的有两种：分散法和凝聚法。由于蒙脱石本身的性质我们采用的是分散法，混悬液中微粒的大小不仅关系到混悬液的质量和稳定性，也会影响混悬液的药效和生物利用度。所以测定混悬液中微粒大小及其分布，是评定混悬液质量的重要指。由于本研究的蒙脱石采用的是法国益普生公司研制的商品名为思密达的蒙脱石散剂，故其微粒大小符合要求，无需测其微粒大小。
当蒙脱石混悬液的工艺配方确定时，为了降低沉降系数，我们可以通过减小粒子的半径来缩小沉降系数。蒙脱石混悬液粒径的细化，取决于分散设备的选择。如果采用IKN研磨分散机的话，不仅可以对蒙脱石混悬液粒径进行细化，还可以将混悬液分散的更均匀。这取决于上海依肯研磨分散机的特殊设计，IKN研磨分散机将胶体磨和分散机合二为一，先研磨细化粒径，再对物料进行分散，使蒙脱石混悬液更加细腻、均匀、稳定。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
蒙脱石混悬液CMD2000系列研磨分散机的特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
蒙脱石混悬液分散机选型表
| CMD2000系列 研磨分散机 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
| CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | ||
| CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | ||
| CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | ||
| CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | ||
| CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | ||
| 流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。 | |||||||
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