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   如何生产出高品质的杀菌剂，对杀菌剂生产的设备要求很高，高剪切胶体磨的优良性能可以更好的满足杀菌剂的生产。
             

 【IKN高剪切胶体磨的概述】
  胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

【IKN高剪切胶体磨的工作原理】
  高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的细度可达0.5um。
     

【高剪切胶体磨主要用途】

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。

【IKN胶体磨结构及特点】

三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。

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CM2000系列的特点：

①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

②齿列的深度：从开始的2.7mm到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。

③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

【CM2000系列设备选型表】

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同事流量可以被调节到允许量的10%

【IKN的CM2000系列和国内设备相比】

  胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。