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二氧化硅分散设备,二氧化硅混合设备,IKN粉液分散混合机

 
品牌: IKN
产品规格: PLD2000/4
单价: 78000.00元/台
起订: 1 台
供货总量: 10 台
发货期限: 自买家付款之日起 15 天内发货
所在地: 上海
有效期至: 长期有效
最后更新: 2021-05-31 06:50
浏览次数: 625
 
公司基本资料信息
详细说明
 【产品名称概述】二氧化硅混合机,二氧化硅混合设备,二氧化硅分散设备,粉液混合机,气相二氧化硅分散难点,IKN分散设备,分散设备工作原理
            混合分散设备
 【二氧化硅的重要用途】
     二氧化硅的用途很广。自然界里比较的水晶可用以电子工业电子的重要部件、光学仪器和工艺品。
  气相法二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,由于其粒径很小,因此比表面积大,表面吸附力强,表面能大,化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能,以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性,在众多学科及领域内独具特性,有着不可取代的作用。气相二氧化硅质量小,很轻,极易飞扬,广泛应用于化妆品和农药行业。通常用作补强剂,稳定剂或粘度调节剂。 
 【二氧化硅的分散难点】

二氧化硅加工的难点在于湿化并达到相应的粘度。而且和水(溶剂)混合后容易团聚,IKN在这个行业拥有丰富的经验,能够满足不同客户的要求。

 【IKN混合设备在二氧化硅的分散中的优势】

①消除粉尘。IKN为气相二氧化硅与水的混合,设计多种解决方案。粉体直接从包装袋中吸入,或者可以跟您的工程师一起特殊定制工艺。

②改善容器清洁问题。使用IKN在线粉体液体混合系统,能够消除容器壁的物料残留,改善清洁,并减少原材料浪费。

③化成分功能。很多公司在湿化二氧化硅工艺上都遇到困难,通常需要足够的剪切力来达到材料活性和特定粘度,只有IKN可以提供这种类型的剪切分散机,为气相二氧化硅湿化混合提供足够的剪切力。
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【IKN混合设备粉液混合机的概述】

面对粉末难易团聚,难以分散,粉尘飞扬的粉体处理工艺中最常见的问题,IKN依肯研发了PLD2000系列产品,专门用于解决粉液在线混合分散的问题

PLD2000设备的特殊结构和工作原理:装备了一个特别设计的转子,一个入口进液体,一个入口进粉体,使两相在瞬间接触时就能及时的将粉体打散。机器可以循环操作直到所有粉末加入完毕,然后密封加料入口,在腔体中继续分散混合。根据产品要求,粉末的性状,添加量可达80%。另外,如果粘度过高,也可在入口前加一台泵。
             混合分散设备

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