随着高分子材料工业的发展，塑料、橡胶、纤维等合成高分子材料越来越广泛的用于建筑、化工、军事及交通等领域。但大部分高分子材料均易于燃烧，在很多应用领域中，需要添加阻燃剂以降低其燃烧性及燃烧速度，从而达到预防火灾、减缓火势蔓延的密度。近年来，高分子阻燃技术受到性的关注阻燃剂以及成为于增塑剂的第二大高分子材料用助剂。
作为重要的无极阻燃剂产品，氢氧化铝和氢氧化镁由于环境友好、阻燃性强而倍受人们青睐。与氢氧化铝相比，氢氧化镁具有热稳定性高、成炭效率高和降酸能力强等特点。可以广泛的应用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不饱和树脂等高分子材料的阻燃和消烟。
目前，氢氧化镁阻燃剂的超细化、纳米化是主要的研究方向。在高分子材料的加工温度下，氢氧化镁都是以颗粒状存在于体系中，一般而言，填充量相同时，氢氧化镁的颗粒越细，其分散越均匀，阻燃效果越明显，对材料物理力学性能的负面影响越小，甚至还会起到刚性粒子增塑增强的效果。
然而，要获得超细的氢氧化镁助燃剂混悬液就必须使用高品质的分散设备，传统的分散设备，一方面无法将氢氧化镁浆料进一步细化，另一方分散效果不佳。上海IKN结合多家阻燃剂厂家，可知，采用IKNCMSD2000系列研磨分散机对氢氧化镁浆料进行进一步的研磨和分散，粒径更小，分散更均匀。
IKN研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备，先研磨后分散机，因为氢氧化镁分散到水中或者溶剂当中，会形成二级团聚体，软团聚。需要先将团聚体打开再进行分散。IKN研磨分散机二级工作组，转速高达14000rpm，剪切力强，分散更彻底。
CMSD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMSD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMSD2000系列研磨分散机的特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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