石墨烯用于涂料中可制备纯石墨烯涂料和石墨烯复合涂料，前者主要是指纯石墨烯在金属表面发挥腐蚀防、导电等作用的功能涂料;后者主要是指石墨烯首先与聚合物树脂复合，然后以复合材料制备功能涂料，石墨烯可显著提升聚合物的性能，因此石墨烯复合涂料成为石墨烯的重要应用研究领域。
石墨烯与聚合物树脂复合方法大致有3种：
(1)熔融共混。高温下将聚合物与石墨烯熔融混合，可避免使用溶剂;
(2)溶液共混。选择合适的溶剂先溶解聚合物，再与石墨烯分散液均匀混合，除去溶剂。
(3)原位聚合。将石墨烯分散到聚合物单体中，发生单体－单体间、单体－石墨烯－单体间聚合，原料通常为改性石墨烯，以提高两者相容性。前两种方法是使聚合物进入石墨烯内部形成插层复合物，第3种方法是使聚合物在石墨烯上生长，三者均能有效地使石墨烯剥离并均匀分散。
石墨烯改性涂料，提高涂料的性能。主要是将石墨烯均匀的分散到涂料基质当中，然而传统的涂料分散设备无法满足分散效果的要求，传统分散设备转速较低，一般为3000rpm。而采用IKN管线式研磨分散机，转速高达14000rpm，另外的结构设计，将胶体磨和分散机一体化，先研磨后分散，分散粒径更小，粒径分布更均匀。
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为什么国内分散机的转速只能是3000rpm？
国内分散机的结构大都都是直连电机，分散机的主轴和电机直连，电机就决定了主轴的转速。而进口分散机采用分体式结构，通过皮带进行变速，国产设备由于结构的设计缺失、机械密封技术的不足的原因，以及改进后成本大幅度的提高问题，一直无法实现高速分散机的和生产。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000系列研磨分散机的结构：
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
IKN研磨分散机有很高的线速度，以及特殊上深下浅的三级磨头结构，一次处理即可满足细化要求。级刀头形状，可以把相对大块的物料进行初步粉碎，以便能顺利通过更细的两级进行细微化研磨。磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下浅的齿列结构，相较沟槽是直线，同级的沟槽深度一样的磨头，可以保证物料从上往下一直在进行研磨。虽和其它产品一样磨头采用三级磨齿，但他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
CMD2000研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到，保证机器连续24小时不停机运行。
CMD2000系列设备选型表
| 型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
| CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
| CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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