专为实验室小试研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同，且分散头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升级过程中的风险降到。50ML可以进行一批实验，如果需要打循环的话，500ML就可以循环，可以为超小型的实验提高设备支持，设备的处理量十分灵活。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
小试研磨分散机的设备特点
① 型配有博格曼双机械密封，以及密封液压系统，因此虽然一款中试设备，但同样具有生产的可靠性。
IKN密封件为双端面集装式密封，耐压性好，超高转速下拥有优异的密封表现。配有压力平衡罐，充入适当压力可保证机封上下端面受力平衡，同时运转时可通过自身偏心 结构的带来的泵环效应和热虹吸效应实现冷却水的自动循环。该循环系统为独立系统，与外界无接触，平衡罐内冷却液可选纯化水或合适的溶剂，有效避免普通冷却 自来水压力不稳和含有少量颗粒杂质对机封带来的损坏。
② 专为实验及中试型机器配备的变频控制柜，不仅可以设定不同功能模块，显示温度，控制转速，还可以显示与功能模块相匹配的各项参数，可供量产作数据记录。
③ CMD2000/4为立式分体式结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。立式分体结构，通过皮带传动，并实现加速，加速比为3：1，即正常50HZ频率下转速为7890RPM,外加变频可达13789RPM。。PP2000/4转子的直径为55mm(转速相较其它厂家2900转左右高出约三倍).
④ 具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。高剪切分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。
小试研磨分散机，小型研磨分散机，小试分散机，小试研磨机，小试的目的是为了给工业化生产提供有力的数据参数，所以在选择小试设备的时候要考虑到小试设备的效果是否与工业化设备相符合，如果不相匹配小试就失去了它的意义，IKN小试胶体磨和工业化胶体磨的线速度是一样的，这样就保证了小试和生产的效果一致。
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